Dr. Gassner & Partner mbB

可以通过德国半导体保护法来保护微电子半导体产品的三维结构（拓扑图），即具有多层结构的微芯片的“掩膜作品”。

保护的条件是所申请的拓扑图必须具有“特殊性”，如果是独立的作品而不是传统知识作品通常都是这种情况。

如果满足保护的形式条件，由德国专利商标局登记拓扑图。没有实质检查来确定是否满足“特殊性” 。在首次商业使用起两年内可以在德国专利商标局申请拓扑图保护。

拓扑图的保护期限是十年。如果在其用于商业用途之后才申请拓扑图保护，保护的期限会相应减少。