Dreidimensionale Strukturen mikroelektronischer Halbleitererzeugnissen (=Topografien), d.h. die sogen. Mask-Work von Mikrochips mit Mehrschichtaufbau, können nach dem Halbleiterschutzgesetz unter Schutz gestellt werden.
Schutzvoraussetzung ist, dass die angemeldete Topographie "eigenartig" ist, was in der Regel dann der Fall ist, wenn es sich um eine eigene Leistung handelt, die nicht alltägliches Ergebnis geistiger Arbeit ist.
Bei Vorliegen der formellen Schutzvoraussetzungen erfolgt die Eintragung der Topografie beim Deutschen Patent- und Markenamt. Eine Prüfung auf die materielle Schutzvoraussetzung der "Eigenart" findet nicht statt. Eine Topographie kann noch innerhalb einer Frist von 2 Jahren nach der ersten geschäftlichen Verwertung beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet werden.
Die Laufzeit einer Topographie beträgt maximal 10 Jahre. Sofern die Topographie erst nach Beginn der geschäftlichen Verwertung angemeldet worden ist, verkürzt sich die Laufzeit dementsprechend.
